カルボニル化合物の製法

開放特許情報番号
L2008005489
開放特許情報登録日
2008/10/24
最新更新日
2015/11/11

基本情報

出願番号 特願2007-041957
出願日 2007/2/22
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2008-201755
公開日 2008/9/4
登録番号 特許第4925050号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 カルボニル化合物の製法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 カルボニル化合物
目的 高分子固定化ルテニウム触媒を用いた場合であっても、酸化反応の効率をより改善し、再酸化剤などの使用量を減らしてより経済的な方法で酸化反応を行えるようにする。
効果 この製法は、医薬品中間体などの製造プロセスに組み込むことが可能であり、標的化合物の探索・絞り込みが課題である。触媒を試薬として販売することで、需要開発を促進できると思われる。また、環境調和型の反応であることによる需要が見込まれる。
技術概要
 
酸素雰囲気下、かつ高分子固定化ルテニウム触媒及び再酸化剤の存在下で、アルコールを酸化することからなるカルボニル化合物の製法であって、再酸化剤をアルコールに対し0.01〜1.0当量使用し、高分子固定化ルテニウム触媒が、ルテニウムを架橋高分子に担持させてなり、架橋高分子が、芳香族側鎖、親水性側鎖及び架橋基を有する架橋性高分子を架橋反応に付すことによって形成される。また、架橋性高分子が更に芳香族側鎖以外の疎水性側鎖を有し、さらに、高分子固定化ルテニウム触媒が、架橋性高分子とルテニウムを含む溶液に、極性の異なる貧溶媒を加えることで相分離を生じさせ、相分離によりルテニウムが担持された架橋性高分子を架橋反応に付すことによって形成される。尚、極性の良溶媒としてはTHF、ジオキサン、アセトン、DMF、NMPなどがあり、非極性の良溶媒としてはトルエン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルムなどが使用できる。極性の貧溶媒としてはメタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコールなどがあり、非極性の貧溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、オクタンなどが使用できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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