中性粒子質量分析装置及び分析方法

開放特許情報番号
L2008005110
開放特許情報登録日
2008/9/26
最新更新日
2015/9/25

基本情報

出願番号 特願2008-161603
出願日 2008/6/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2010-002306
公開日 2010/1/7
登録番号 特許第5142273号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 中性粒子質量分析装置及び分析方法
技術分野 電気・電子、食品・バイオ、その他
機能 検査・検出、材料・素材の製造、その他
適用製品 中性粒子質量分析装置
目的 感度が向上し、質量の大きな高分子領域(m/zが大きい)の二次粒子の測定に当たって、フラグメンテーションを発生させない中性粒子質量分析装置及び分析方法の提供を目的とする。
効果 エレクトロスプレーによって放出されたイオンは、分析試料の周囲に満遍なくシャワー状に輸送することが可能であるため、中性粒子のポストイオン化が可能となる空間を非常に大きくすることができ、結果として高感度な分析が可能となる。 プトロン(H↑+)やハイドライド(H↑−)の移動反応等のソフトなイオン化過程を用いてポストイオン化を行うため、過剰なエネルギーが中性粒子に内在することが避けられ、結果としてフラグメンテーションを抑制しながらポストイオン化が可能となる。
技術概要
中性粒子質量分析装置は、基本的に、一般的な二次イオン質量分析装置(SIMS)であるが、エレクトロスプレー部ならびにエレクトロスプレーによって生成されたイオンの輸送機構を有する構造であることが特徴である。 エレクトロスプレー部ではキャピラリー先端から気相中にイオンが放出され、放出されたイオンは分析試料付近へ輸送される。 分析試料に対する一次イオンビームの照射によって、分析試料表面から放出された中性粒子は、エレクトロスプレーにより供給されたイオンとの相互作用(プロトン授受反応等のイオン化反応)により、ソフトにポストイオン化がなされる。ポストイオン化された粒子は、質量分析部へ輸送され質量分析が行われる。 本発明ではエレクトロスプレーによって気相中に放出されたイオンを、分析試料付近に輸送し、一次イオンビーム等の衝撃によって分析試料表面から放出された中性粒子と相互作用させることで、ポストイオン化を可能とする。例えばエレクトロスプレーによって気相中に生成されたイオン(プロトンH↑+など)は、中性粒子から電子(e↑−)を引き抜いたり、プロトン(H↑+)を付与する等の反応を起こし、結果として中性粒子をソフトにイオン化できる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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