偏光回折素子を用いた機械駆動不要な偏光解析システム

開放特許情報番号
L2008004760
開放特許情報登録日
2008/9/5
最新更新日
2012/12/20

基本情報

出願番号 特願2005-317352
出願日 2005/10/31
出願人 国立大学法人長岡技術科学大学
公開番号 特開2007-121235
公開日 2007/5/17
登録番号 特許第5109112号
特許権者 国立大学法人長岡技術科学大学
発明の名称 偏光解析システム
技術分野 その他
機能 検査・検出
適用製品 偏光回折素子を用いた機械駆動不要な偏光解析システム
目的 測定の高速化や解析システムのコンパクト化を実現し、高密度光記録システムや高速なエリプソメトリーに応用するために、このような機械的回転機構を用いない偏光解析システムを提供する。
効果 周期的に変化した固定化された分子配向構造を有する重合層を含む回折格子素子と、回折格子素子からの回折光強度を測定する検出素子を含むことによって、機械駆動部を要しない偏光解析システムを提供できる。
技術概要
光解析システムは、周期的に変化した固定化した分子配向構造を有するメソゲンを含む高分子層からなる重合層を含む回折格子素子と、回折格子素子からの回折光強度を測定する検出素子とを含む。互いに方向の異なる複数個の格子ベクトルを有し、少なくとも一つの分子配向方向が一定で配向秩序度が周期的に変調された格子ベクトルと、分子配向方向が周期的に変調された格子ベクトルを含む回折格子素子を有する。分子配向方向が格子ベクトルと直交又は平行で配向秩序度が周期的に変調した3つの格子ベクトルと、分子配向方向が周期的に変調した1つの格子ベクトルの合計4つの格子ベクトルを含む回折格子素子を有する。図2、図3から、PP露光で形成した回折格子と、OC露光で形成した回折格子からの回折光強度を測定して、入射偏光の楕円率と方位角の両方を決定する。図1は、2光波の偏光状態と干渉した結果を模式的に表した図、図2は、PP干渉で形成した回折格子素子の回折効率と入射直線偏光の方位角の関係の計算結果、図3は、OC干渉で形成した回折格子素子の回折効率と入射楕円偏光の位相差の関係の計算結果を示す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 重合層がメソゲンを含む高分子層からなり、そのメソゲンが周期的に分子配向した構造を有している回折格子素子を有することにより、機械駆動部を要しない偏光解析システムを提供できる。
改善効果2 互いに方向の異なる複数個の格子ベクトルを有し、少なくとも一つの分子配向方向が一定で配向秩序度が周期的に変調された格子ベクトルと、分子配向方向が周期的に変調された格子ベクトルを含む回折格子素子を有することにより、機械駆動部を要しない偏光解析システムを提供できる。
改善効果3 分子配向方向が格子ベクトルと直交もしくは平行で配向秩序度が周期的に変調された3つの格子ベクトルと、分子配向方向が周期的に変調された1つの格子ベクトルの合計4つの格子ベクトルを含む回折格子素子を有することにより、機械駆動部を要しない偏光解析システムを提供できる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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