ナノマトリックス分散天然ゴム及びその製造方法

開放特許情報番号
L2008004694
開放特許情報登録日
2008/8/29
最新更新日
2008/8/29

基本情報

出願番号 特願2002-322130
出願日 2002/11/6
出願人 国立大学法人長岡技術科学大学
公開番号 特開2004-155884
公開日 2004/6/3
登録番号 特許第4025868号
特許権者 国立大学法人長岡技術科学大学
発明の名称 ナノマトリックス分散天然ゴム及びその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ナノマトリックス分散天然ゴム
目的 天然ゴムの優れた性質とともにグラフト高分子の特性をも具備し、コンドーム、手術用手袋やカテーテル等の医療分野や家庭用品等として幅広く使用することができる、少量成分であるグラフト鎖により形成された微細なマトリックス中に、主成分である天然ゴム粒子が分散した特異な相分離構造を有するナノマトリックス分散天然ゴムを得る。
効果 ナノマトリックス分散天然ゴムを、厚さ10〜1000μm程度の薄膜として得ることができる。この薄膜は、新規な相分離構造を有するものであり、天然ゴムの優れた性質を有するとともに、天然ゴムに比較して100%延伸時の応力が改善され、引張強さや引裂強さに優れることから、2001年度のJIS改正に伴って、従来の脱蛋白天然ゴムでは製造することが不可能となったコンドーム等の医療用薄膜製品の原料として使用できる。
技術概要
脱蛋白質化天然ゴム粒子表面にスチレン系モノマーがグラフトしたスチレン系モノマー単位の含有量が6.7〜14.1重量%のグラフト化天然ゴムからなり、グラフト鎖により形成された厚さ1〜100nmのグラフトスチレン連続相中に天然ゴム粒子が相分離した状態で分散したナノマトリックス分散天然ゴム薄膜である。また、天然ゴム粒子の平均粒径が0.01〜20μm、天然ゴム粒子の窒素含有率が0.1重量%以下、ナノマトリックス分散天然ゴム薄膜が厚さ10〜1000μmの薄膜、グラフト化天然ゴムが架橋されたものである、ナノマトリックス分散天然ゴム薄膜である。製造方法は、天然ゴムラテックスを脱蛋白質化した後、水溶性ラジカル開始剤にてゴム粒子表面にラジカル活性点を導入した後、スチレン系モノマーを添加することにより天然ゴム粒子表面でグラフト共重合を行い、得られたラテックスを製膜する。得られた薄膜をOsO↓4にて染色してからクライオミクロトームを用いて超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡にて相分離構造を観察した結果を図1に示す。また、得られた薄膜の伸張倍率(%)と引張強度(MPα)の関係(応力−歪曲線)を図2に示す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【改善】
改善効果1 このナノマトリックス分散天然ゴムは、脱蛋白質化されていない通常の天然ゴムのように、医療分野や家庭用品等として製品化された際にアレルギーを誘発するおそれが極めて低いものであり、これらの原料として実用的価値が極めて高い。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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