放射線橋かけ型ハイドロゲルの製造方法

開放特許情報番号
L2008004407
開放特許情報登録日
2008/8/22
最新更新日
2011/12/2

基本情報

出願番号 特願2006-277930
出願日 2006/10/11
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2008-094951
公開日 2008/4/24
発明の名称 放射線橋かけ型ハイドロゲルの製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 放射線橋かけ型ハイドロゲル
目的 低濃度のカルボキシメチルセルロース(CMC)水溶液を使用し、かつ低照射線量によってCMCハイドロゲルを安価に製造する。
効果 30kGyとか40kGyという高照射線量を与えても十分なゲル分率が得られなかった、5重量部以下という低濃度の多糖類であっても、金属塩を添加することによって多糖類の分子鎖間距離を縮めることによって、低照射線量を与えるだけで大きなゲル分率を得ることができる。すなわち、多糖類の使用量が少なくて済み、電離性放射線の照射線量も低くて済むので、ゲルの製造コストを大幅に低下できる。
技術概要
5重量部以下、の低濃度のカルボキシメチルセルロースと金属塩との水溶液に、3kGy以上のγ線を照射し、カルボキシメチルセルロースをゲル化させ、ゲルを水に浸漬させて金属塩を離脱させ、ハイドロゲルを得る放射線橋かけ型ハイドロゲルの製造方法である。金属塩は塩化カルシウムであるのが好ましい。塩化カルシウムの粉末を準備する(ステップ101)。この塩化カルシウム粉末に超純水を加え、マグネチックスターラーなどの攪拌器によって混合し、均一な1重量部塩化カルシウム水溶液を調製する(ステップ102)。その後、調製された1重量部塩化カルシウム水溶液にCMC2.2(2.2は置換度を示す。)を加えて攪拌し、5重量部CMC2.2と1重量部塩化カルシウムを含む水溶液を調製する(ステップ103)。この水溶液に適量のγ線を照射してCMCに放射線橋かけを生じさせてゲル化する(ステップ104)。最後に、調製されたゲルを水に浸漬させ、ゾル分と金属塩を溶出させ、金属イオンを含まないCMCハイドロゲルを得る(ステップ105)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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