| 出願番号 |
特願2008-116519 |
| 出願日 |
2008/4/28 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2009-262295 |
| 公開日 |
2009/11/12 |
| 登録番号 |
特許第5317095号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
仕上研磨用定盤 |
| 技術分野 |
機械・加工 |
| 機能 |
機械・部品の製造、表面処理 |
| 適用製品 |
仕上研磨用定盤 |
| 目的 |
潤滑材の膜が除去され易く、研磨試料の研磨面が研磨フィルムに吸い付きにくく、削り屑が研磨面を傷つけることがなく、また耐摩耗性が大きく異なる素材からなる複合材料を研磨する場合でも平面性の高い研磨が可能な仕上研磨用定盤の提供を目的とする。 |
| 効果 |
仕上研磨用定盤の平行溝による排水効果により潤滑材が排水されやすくなり、研磨試料の研磨面と研磨フィルムとが容易に接触し、研磨効率を向上させる。 研磨試料の研磨面と研磨フィルムとの接触面積が制限されるため、研磨面が研磨フィルムに吸い付きにくいので、楽に研磨することができる。 研磨試料から発生した削り屑が定盤の並行溝上の研磨フィルムの凹部へ排出されるので、研磨面を傷つける頻度が著しく低下する。 耐摩耗性が大きく異なる素材からなる複合材料を研磨する場合でも、平面性の高い研磨が可能である。 |
技術概要
 |
仕上研磨用定盤は、例えば、横３００ｍｍ、縦２００ｍｍ、厚さ８ｍｍの平面形状の板体の表面に複数の平行な溝を加工して形成される。板体は、例えばフロートガラス板が用いられ、その場合、平行な溝はマスキング処理をした上でフッ酸で処理することにより形成される。 溝を形成する凹部は矩形状で、深さは５０〜２００μｍの範囲が望ましく、１００μｍ程度がより望ましい。また、凹部の幅は３〜４ｍｍ程度、凹部間の凸部の幅は１〜４ｍｍ程度が望ましい。 凹部と凸部との境目の角部は、凹部の深さの半分の曲率半径と同程度に角を丸めるのがよい。 複数の平行な溝が形成された仕上研磨用定盤に搭載された研磨フィルム（例えば固定砥粒フィルム）面に研磨試料を適度に押付けながら潤滑材（例えば、水）を供給しながら研磨作業を行うと余分な潤滑材は複数の平行な溝から排出され、研磨フィルムは仕上研磨用定盤の溝の部分において溝の凹部に落込んだ状態になり、研磨フィルムの表面には溝と同じ間隔で円弧状凹部が形成される。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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