キセノン核磁気共鳴法による多孔質材料のポア解析方法およびポア解析装置

開放特許情報番号
L2008004273
開放特許情報登録日
2008/8/15
最新更新日
2015/9/21

基本情報

出願番号 特願2008-059597
出願日 2008/3/10
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-216499
公開日 2009/9/24
登録番号 特許第5004096号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 キセノン核磁気共鳴法による多孔質材料のポア解析装置
技術分野 無機材料
機能 検査・検出
適用製品 多孔質シリカ、モレキュラーシーブ等多孔質材料のポア解析装置に適用する
目的 Xeの超偏極↑1↑2↑9XeNMRによるポア評価装置を提供する。
効果 この装置により、Xeの振る舞いに関する知見を反映した化学シフトと線幅の解析からポアのサイズと分布に関する情報が得られる。
技術概要
各種多孔質シリカを密閉型反応室5内へ搬入する作業腕6と、密閉型反応室5内を真空引きし、水分等の吸着物を除く真空引き手段7と、密閉型反応室5内をXeの沸点直上の168K以上に冷却する冷却手段8と、Xeガスを光ポンピング法により超偏極状態にするXeガス偏極手段10と、Xeガス偏極手段10で超偏極状態にしたXeガスを密閉型反応室5内へ大気圧状態で導入するXeガス供給手段9と、導入後にその温度で↑1↑2↑9XeNMRスペクトルを時間をおいて複数個測定し、時間依存性を計測するリアルタイム計測手段11と、平衡に達した後に、測定温度を上昇しながら↑1↑2↑9XeNMRスペクトルを測定し、温度依存性を計測する温度依存性計測手段12と、この計測手段12により計測した温度依存性に基づいて↑1↑2↑9Xe化学シフト、線幅、面積強度を計測する計測手段13と、及びこれらを制御する制御手段4を備えるポア解析装置1にする(図)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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