| 出願番号 |
特願2005-305333 |
| 出願日 |
2005/10/20 |
| 出願人 |
国立大学法人名古屋大学 |
| 公開番号 |
特開2007-112659 |
| 公開日 |
2007/5/10 |
| 登録番号 |
特許第4729704号 |
| 特許権者 |
国立大学法人東海国立大学機構 |
| 発明の名称 |
金属酸化物膜の製造方法 |
| 技術分野 |
その他 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
金属酸化物膜 |
| 目的 |
真空紫外光を利用する金属酸化物膜の製造において、より低い温度で結晶性の金属酸化物膜を形成可能な製造方法を提供する。 |
| 効果 |
より広範な基体（耐熱性の低い基体を含む）上に金属酸化物膜を適切に形成することができる。また、真空紫外光を照射する際に加熱または冷却を行うための機構を省略または簡略化することができるので、より簡単な構成の、かつ／または、より小型の装置を用いてもこの方法を実施できる。 |
技術概要
 |
熱分解により金属酸化物を形成可能な金属酸化物前駆体を含む前駆体皮膜を用意し、Ｏ↓２濃度７モル／ｍ↑３以上の雰囲気中で前記皮膜に向けて主波長１３０〜１８０ｎｍの真空紫外光を照射して皮膜から結晶性の金属酸化物膜を形成させる、金属酸化物膜の製造方法である。前駆体被膜に向けて真空紫外光を照射して結晶性の金属酸化物膜を形成するのに適した装置の概略構成を図１に示す。この金属酸化物膜製造装置１０は、チャンバ１２と、チャンバ内に真空紫外光を照射する真空紫外光照射手段２０と、チャンバ内のＯ↓２濃度を調節するＯ↓２濃度制御手段３０とを備える。チャンバ１２の内部であって照射窓２２の下方にはステージ１４が配設されている。このステージ１４は、被照射物（前駆体皮膜の形成された基体等）３を配置する載置台１４２と、載置台１４２を昇降可能に支持する脚部１４４とを備える。この構成を有するステージ１４によって、載置台１４２に配置された被照射物３の表面（典型的には、前駆体皮膜の外表面）から照射窓２２の外表面までの距離を適宜調節することができる。図２は金属酸化物膜の製造方法を示す概略工程図である。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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