プラズマ生成装置およびプラズマ処理製造方法

開放特許情報番号

L2008003600

開放特許情報登録日

2008/7/18

最新更新日

2020/10/21

基本情報

出願番号	特願2006-328259
出願日	2006/12/5
出願人	国立大学法人名古屋大学
公開番号	特開2007-184259
公開日	2007/7/19
登録番号	特許第4304280号
特許権者	国立大学法人東海国立大学機構
発明の名称	プラズマ生成装置およびプラズマ処理製造方法
技術分野	電気・電子
機能	機械・部品の製造
適用製品	プラズマ生成装置
目的	生産性を落とすことなく、イオン照射ダメージを抑制し、放電容器内部でプラズマを生成することができる優れたプラズマ生成装置およびプラズマ処理製造方法を提供する。
効果	ホロー状穴内からの噴き出し法は、薄膜シリコンの結晶性向上に大きな効果がある。
技術概要	図１に示されるプラズマ処理装置は、マイクロ波電源１から供給された電力により発生したマイクロ波をその内側２２に沿って伝達させる導波管２０と、この導波管２０に連結されるとともに内部に収容した基板１５等に対しマイクロ波により励起されたプラズマを用いて処理を行うための放電容器１０とを備えている。図２（ａ）は、一般的なフラットな誘電体板を示す。それに対し、図２（ｂ）は、穴のサイズ程度以上に互いに離れて配置されたホロー状穴を多数もつ誘電体板を示す。各ホロー状穴部は、表面波がその内壁面を伝わるよう構成されているが、各ホロー状穴部の形状・深さ・大きさを適宜変更することができる。図３（ａ）は、誘電体内のガス配管を通してホロー状穴のガス噴出口からガスを噴出す方法を示す。この場合、スロット板と誘電体板（ホロー板）とが積層して形成され、ガス噴出口に繋がるガス配管が誘電体板の内部に配設されている。ガス配管内をプラズマ生成用原料ガスが供給されるので、各ホロー状穴に均等に供給される。図３（ｂ）は、スロット板内のガス配管を通してホロー状穴に、プラズマ生成用原料ガスを噴出する方法を示す図である。
イメージ図
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	財団法人名古屋産業科学研究所　中部ＴＬＯ

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】