チアゾリン製造用触媒、チアゾリン化合物の製法、オキサゾリン製造用触媒及びオキサゾリン化合物の製法

開放特許情報番号
L2008003589
開放特許情報登録日
2008/7/18
最新更新日
2008/11/21

基本情報

出願番号 特願2006-050064
出願日 2006/2/27
出願人 国立大学法人名古屋大学
公開番号 特開2007-222851
公開日 2007/9/6
登録番号 特許第4178251号
特許権者 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 チアゾリン製造用触媒、チアゾリン化合物の製法、オキサゾリン製造用触媒及びオキサゾリン化合物の製法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 チアゾリン、オキサゾリン製造に有用な触媒に適用する。
目的 特定の化学構造を有する酸化モリブデンビスキノリノール錯体からなるチアゾリン、オキサゾリン製造用触媒を提供する。
効果 従来よりも少ない使用量で反応を促進させることができ、また、カルボキシアミドのカルボニル炭素に隣接する炭素が不斉炭素であって光学活性を有する基質を用いた場合でも、その不斉炭素の立体配置を良好に保持した環化物を得ることができる。
技術概要
(A)分子内にN−(2−メルカプトエチル)カルボキシアミド骨格を持つ基質の環化反応によりチアゾリン化合物を製造するのに用いられるか、または、(B)分子内にN−(2−ヒドロキシエチル)カルボキシアミド骨格を持つ基質の環化反応によりオキサゾリン化合物を製造するのに用いられる、式(R↑1〜R↑4はH、ハロゲン、炭化水素)で表される酸化モリブデンビスキノリノール錯体を有効成分として含有する触媒にする。いずれの環化反応も、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等の共沸脱水用溶媒を基質1mmolに対して1〜100mlの範囲で使用し、酸化モリブデンキノリノール錯体触媒を基質に対して0.1〜20mol%、好ましく0.5〜10mol%の触媒量に設定して、70〜150℃、好ましくは70〜120℃の温度で行なわれる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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