磁場応答固体高分子複合体およびアクチュエータ素子

開放特許情報番号
L2008003466
開放特許情報登録日
2008/7/4
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2007-309901
出願日 2007/11/30
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-099551
公開日 2008/4/24
登録番号 特許第4784840号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 磁場応答固体高分子複合体およびアクチュエータ素子
技術分野 電気・電子、生活・文化
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、安全・福祉対策
適用製品 アクチュエータ素子材料、人体外からの磁場照射により駆動される磁場応答カテーテル材料、磁場センサによる先端位置センシング材料
目的 リード線を必要とすることなく、大きく柔軟に湾曲および変形しうる超小型アクチュエータ素子の提供、さらに電圧駆動方式の超小型アクチュエータにおいて、大きな変位を達成する新規な超小型アクチュエータ素子の提供。
効果 柔軟性に優れ、変位量の正確な制御が可能であり、かつ大きく湾曲および変形しうる磁場応答固体高分子複合体および電場・磁場応答固体高分子複合体が得られる。電場・磁場応答固体高分子複合体は、電場・磁場駆動による超小型ソフトアクチュエータ素子材料などとして有用である。
技術概要
この技術は、固体高分子イオン交換膜の少なくとも一方の表面に強磁性体材料層を備えた磁場応答固体高分子複合体であって、強磁性体材料がコバルトである磁場応答固体高分子複合体とする。基材として使用する固体高分子イオン交換膜は、陽イオン交換樹脂膜、陰イオン交換樹脂膜および両性イオン交換樹脂膜が挙げられる。磁場応答固体高分子複合体の製造は、基材を所定の強磁性体金属イオンを含む水溶液に浸漬し、金属イオンを吸着させた後、金属イオンを吸着した基材を還元剤水溶液に浸漬することにより、行う。基材を浸漬する水溶液としては、コバルトイオン、ニッケルイオン或いはこれら両イオンを含む水溶液を使用する。次いで、金属イオンの還元は、金属イオンを吸着した基材を公知のメッキ加工において使用されている還元剤水溶液に浸漬することにより、行う。次いで、還元処理された基材を、必要ならば水洗して、所望の磁場応答固体高分子複合体を得る。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT