炭化水素系単分子膜による潤滑方法

開放特許情報番号
L2008002737
開放特許情報登録日
2008/6/6
最新更新日
2009/9/18

基本情報

出願番号 特願2008-033364
出願日 2008/2/14
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-191168
公開日 2009/8/27
発明の名称 炭化水素系単分子膜による潤滑方法
技術分野 化学・薬品、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 炭化水素系単分子膜による潤滑システム
目的 シリコン基板と直接結合した自己組織化膜を用いてシリコン基板の摩擦・摩耗の低減化を行えるようにする。
効果 摩擦摩耗低減方法は、水素終端シリコン上にアルケンから作成した潤滑膜により、摩擦・摩耗を低減する。
技術概要
摩擦摩耗低減方法に用いる潤滑膜は、図1の模式図に示すようにCH↓3−(CH↓2)↓n=CH↓2(n=12−18)で表わされる直鎖の1−アルケンの分子膜を有する自己組織化単分子膜(SAM(Self−Assembled Monolayer))であり、これで被覆されたシリコンは摩擦・摩耗特性が低減される。また、水素終端シリコンを、図1に示すようにCH↓2−(CH↓2)↓n=CH↓2(n=12−18)(式中、nは12〜18の整数である。)で表わされる直鎖の1−アルケンのメシチレン溶液に130〜170℃で1〜5時間分浸漬することにより、自己組織化分子膜(SAM(Self−Assembled Monolayer)で被覆されたシリコンを作成することができる。新たにアルケンを使用した直接結合形のSAMを用いることで摩擦係数を低減する。水素終端シリコン基板の摩擦・摩耗の低減化を行う方法は、ナノメーターオーダーでの動作や位置決めの精度が必要とされるナノメーターオーダーでの膜厚制御が可能で、ナノメーターオーダーの潤滑膜を提供することができ、微小機械における潤滑特性を高めることができ、産業上の利用可能性が高いものである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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