ポリカーボネート積層体

開放特許情報番号
L2008002613
開放特許情報登録日
2008/6/6
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2007-313749
出願日 2007/12/4
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-137077
公開日 2009/6/25
登録番号 特許第5187821号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ポリカーボネート積層体
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 ポリカーボネート積層体
目的 ポリカーボネート(PC)樹脂材の高い透明性を保持しつつ、PC樹脂材のもつ薬品耐性についてより高い特性が付与された、炭素膜とPC樹脂との積層体、及びPC樹脂材からなる基板への炭素膜堆積方法を提供する。
効果 炭素膜とPC樹脂の積層体は、従来のPC樹脂材の光学的な透明性を保ちつつ、薬品耐性を一層高めることが可能である。さらに、この炭素膜堆積方法によれば、基材として用いるPC樹脂材のプラズマによる損傷を防止するばかりでなく、PC樹脂材の溶融や熱変形を防止することができる。
技術概要
この積層体は、ポリカーボネート樹脂材と、ポリカーボネート樹脂材の表面上に堆積された膜厚50nm〜10μmで、表面粗さRaが20nm以下の炭素膜とを備え、炭素膜は、CuK↓α↓1線によるX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.3°)の41〜42°にスペクトルのピークを備える、ポリカーボネート積層体であって、積層体は、波長400〜800nmにおける光透過率が55%以上、波長500〜800nmにおける光透過率が80%以上という高い光透過性を有する。図1は、炭素膜と樹脂(PC材)の積層体の概要を示す断面図である。図2に、炭素膜とPC樹脂の積層体形成に用いる装置を示す。図中、101はマイクロ波プラズマCVD反応炉(プラズマ発生室)、102はマイクロ波をプラズマ発生室101に導入するためのスロット付き角型導波管、103はマイクロ波をプラズマ発生室101に導入するための石英部材、104は石英部材を支持する金属製支持部材、105は被成膜基材、106は被成膜基材を設置するための試料台であり、上下動機構と被成膜基材の冷却機構を備えており、107はその冷却水の給排水である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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