| 出願番号 |
特願2006-051967 |
| 出願日 |
2006/2/28 |
| 出願人 |
国立大学法人埼玉大学 |
| 公開番号 |
特開2007-230798 |
| 公開日 |
2007/9/13 |
| 登録番号 |
特許第4378482号 |
| 特許権者 |
国立大学法人埼玉大学 |
| 発明の名称 |
鏡面溝形成方法 |
| 技術分野 |
機械・加工、無機材料 |
| 機能 |
機械・部品の製造、材料・素材の製造、表面処理 |
| 適用製品 |
ガラス上に微細な鏡面の溝を形成する方法、マイクロ化学チップ、レーザ、生体の分析、化学分析 |
| 目的 |
半導体加工技術でマイクロ化学チップを製造する場合は、完成までに数十日以上を要し、多額の費用が掛かり、また、マイクロ化学チップには様々なニーズがあり、多品種少量生産が求められているため、半導体加工技術には不向きであることに鑑み、微細な鏡面溝を手軽に形成することができる鏡面溝形成方法を提供し、また、その方法により作成した装置を提供することの実現。 |
| 効果 |
大掛かりな装置を必要とせずに実施することができ、マイクロ化学チップなどの装置を短時間で製作することができる。バイオテクノロジー、医学分野、薬学・化学分野等で求められているマイクロ化学チップ等の装置を製造する際に極めて有用である。 |
技術概要
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この技術では、鏡面溝形成方法は、結晶化ガラスにレーザを照射して照射箇所の結晶化ガラスを非晶質に変質させ、非晶質化した部分を剥離させて溝を形成する。この方法では、結晶化ガラスに変態応力と熱応力とが作用して非晶質化した部分が剥離し、その結果、溝が形成される。また、結晶化ガラスを常温より低い温度に冷却してレーザを照射すると、熱応力の作用が増加して、非晶質化した部分の剥離割合が向上する。結晶化ガラスとしてＬｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系低膨張結晶化ガラスを使用するとよい。Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系低膨張結晶化ガラスは、非晶質化すると熱膨張係数が一桁増加するため、大きな変態応力が得られる。また、鏡面溝形成方法を用いて鏡面溝を形成することにより、溝入れ加工が必要なマイクロ化学チップ等の装置を短時間で、かつ、安価に製造できる。 |
| 実施実績 |
【試作】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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