ICマイクの振動板形成方法

開放特許情報番号
L2008001947
開放特許情報登録日
2008/4/11
最新更新日
2008/4/11

基本情報

出願番号 特願2001-151283
出願日 2001/5/21
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2002-345089
公開日 2002/11/29
登録番号 特許第4087081号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 ICマイクの振動板形成方法
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 ICマイクおよびICマイクの振動板形成システム
目的 高濃度不純物層形成後の熱処理によって生じるエッチストップの効果の低下を抑制し、高濃度不純物層形成後の熱処理が原因の座屈を防ぐことができるICマイクの振動板形成方法およびICマイクを提供する。
効果 マスク形成温度を高濃度不純物層の形成温度よりも低い温度にすることにより、高濃度不純物層中の不純物の再拡散を低減することができ、それによるエッチストップの効果の低下を抑制し、再拡散が原因の座屈を防ぐことが可能なICマイクの振動板形成方法を実現することができる。
技術概要
所定の加工が施された基板からなり、到達した音波によって振動される振動板を有するコンデンサ型マイクにおいて、振動板は、基板の一方の面にエッチングを停止させるエッチストップ層が所定の第1の温度下で形成された後に、所定の第2の温度下でエッチングマスクを形成し、エッチストップ層が形成された面に対向する面からエッチングマスクを用いて基板のエッチングを行い、エッチストップ層にエッチングが到達した際にエッチングを停止して得られ、第2の温度は、900℃から1000℃の温度範囲内のいずれかの温度であって、第1の温度より低いICマイクである。この構成により、エッチングマスクが約900℃から約1000℃の温度範囲で形成されるため、振動板内に内部応力が少なく、界面電荷の少ないICマイクを実現できる。図1はICマイクの構成を示すブロック図である。図2はICマイクの振動板形成方法における工程を模式的に示す工程図および工程流れを示すフローチャートである。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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