極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法

開放特許情報番号
L2008001757
開放特許情報登録日
2008/4/4
最新更新日
2013/3/18

基本情報

出願番号 特願2007-277388
出願日 2007/10/25
出願人 国立大学法人 宮崎大学
公開番号 特開2009-105307
公開日 2009/5/14
登録番号 特許第5182917号
特許権者 国立大学法人 宮崎大学
発明の名称 極端紫外光源装置および極端紫外光源における付着物除去方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 波長20nm以下の極端紫外光、スズ
目的 スズを使用して極端紫外光を発生させる際に、簡便な方法でスズ酸化物を除去可能にした極端紫外光源装置の提供。
効果 スズを使用して極端紫外光を発生させる際に、スズ化合物、少なくともスズ酸化物を真空紫外光で還元することができ、簡便な方法でスズ酸化物を除去可能にすることができる。
技術概要
この技術における、極端紫外光源装置1では、プラズマ生成領域に供給された金属スズにプラズマ発生用レーザー光が照射されて、プラズマとなり、波長13.5nm程度の極端紫外光が放出され、光学系で反射、集光されて極端紫外光導出部から外部に照射される。このとき、プラズマ生成領域で発生し、飛散した金属スズやスズ化合物により構成されたデブリは、ガスカーテンで一部が光学系側への移動が遮られると共に、水素ラジカル等のスズ反応性ガスでガス状のスズ水素化物(スズ化合物ガス)となり、真空ポンプにより排気される。前記デブリに含まれたスズ酸化物のような比較的安定した物質で、水素ラジカル等と反応しなかったものは、光学系に付着することがある。光学系の表面に付着したスズ酸化物等は、真空紫外光源装置により照射された真空紫外光により、金属スズに還元される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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