パック・セメンテーション法

開放特許情報番号
L2008001022
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2015/10/12

基本情報

出願番号 特願2005-306932
出願日 2005/10/21
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2007-113081
公開日 2007/5/10
登録番号 特許第4943687号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 パック・セメンテーション法
技術分野 金属材料
機能 表面処理
適用製品 パック・セメンテーションシステム
目的 通常の低価格の電気炉や排気装置を用いることが可能であり蒸着室や排気装置や設備が安価で再現性と効率性が良好な新しいパック・セメンテーション法を提供する。
効果 このパック・セメンテーション法によれば、10↑−↑4Pa以上の高真空度状態を保持できる装置やパック・セメンテーション用粉末を入れる容器の充分な空焼きを不用とする経済的なパック・セメンテーション処理を行うことができる。また、処理時間の範囲を特定することによりさらに効率的にパック・セメンテーション処理を行うことができる。さらに、低真空度でパック・セメンテーションを行うことができる。
技術概要
図1はパック・セメンテーション処理法の態様を模式的に示したものであるが、図1に示されているように基材1はパック・セメンテーション処理用粉末2によって被覆されているが、このパック・セメンテーション処理用粉末2は、パック・セメンテーション用粉末作成過程において副次的に生成される微細粉末3によりさらに被覆された状態となっている。このパック・セメンテーション法は基材を被覆したパック・セメンテーション用粉末の周囲をさらに微細粉末で被覆するように配置して加熱することにより該微細粉末をパック・セメンテーション用粉末の蒸着開始温度以下の温度で焼結させて、パック・セメンテーション用粉末の蒸着領域と周囲領域を隔離して雰囲気の流れを遮断した状態でパック・セメンテーションを行う。図2〜図4は微粉末の塗布や堆積を施した状態と微粉末の塗布や堆積を施さない状態において、1100℃、20時間パック・セメンテーション処理をした後の被膜形状のX線像とBEI像である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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