出願番号 |
特願2006-035963 |
出願日 |
2006/2/14 |
出願人 |
独立行政法人物質・材料研究機構 |
公開番号 |
特開2007-216085 |
公開日 |
2007/8/30 |
登録番号 |
特許第5445990号 |
特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
発明の名称 |
有機分子の注入方法とその装置 |
技術分野 |
機械・加工 |
機能 |
機械・部品の製造 |
適用製品 |
有機分子の注入装置 |
目的 |
有機分子を樹脂等の基板に注入する方法において、最大径数μm以下の微小注入領域に有機分子を高濃度に注入する方法を提供する。 |
効果 |
この光照射による微小領域への有機分子注入方法によれば、有機分子注入源を基板に対して凸となるような形状にし、それを基板に接触させることで基板との間の距離が極力狭くなるように制御すること、集光された光のビーム径を、0.1〜3μmの範囲にまで絞り込むことにより、最大径3μm以下の微小領域に有機分子を注入することが可能となる。また、有機分子注入源中の有機分子の濃度を0.01〜10重量%の範囲内とすることにより、十分な注入濃度の有機分子注入と、注入領域の最大径3μm以下の微小領域への絞込が確実になる。 |
技術概要
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有機分子を含む有機分子注入源に対して集光された光を照射することで、光の進行方向あるいは進行反対方向に設置された基板の表面に、有機分子注入源に含まれる有機分子を注入する方法において、有機分子注入源の形状を、基板に対して凸となるような曲面形状として基板に接触させ、集光された光が0.1〜3μmの範囲内に集光された光線であることにより、基板の表面の最大径3μm以下の領域に有機分子を注入する、有機分子の注入方法である。また、基板表面に有機分子を注入するための装置であって、有機分子を含む有機分子注入源を固定するホルダーと、注入源に集光した光を照射する光源と、光の進行方向あるいは進行反対方向に基板を固定するホルダーと共に、有機分子注入源と基板との間の距離を制御する機構とを備え、この距離を制御することで基板表面の最大径3μm以下の領域内に有機分子を注入可能としている、有機分子の注入装置である。図1は有機分子注入装置の概略図、図2は、有機分子注入により作製された、“NIMS”の文字列の顕微鏡観察像である。 |
イメージ図 |
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実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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