二次イオン質量分析装置

開放特許情報番号
L2008000931
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2015/9/18

基本情報

出願番号 特願2007-300440
出願日 2007/11/20
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-128045
公開日 2009/6/11
登録番号 特許第5164145号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 二次イオン質量分析装置
技術分野 無機材料、有機材料、食品・バイオ
機能 制御・ソフトウェア、表面処理
適用製品 簡便な操作で実施でき、有機材料やバイオメディカル試料等の分野で広く利用される。
目的 分析試料を真空雰囲気とする前に、分析試料表面を「イオン液体」により被覆する、二次イオン質量分析装置を提供する。
効果 電気絶縁性の有機試料や水分を含むようなバイオメディカル試料等の二次イオン質量分析が低損傷かつ高精度で、より“生のまま”に近い条件で実施可能となる。
技術概要
二次イオン質量分析方法において、分析試料を真空雰囲気中に導入する前に、分析試料表面をイオン液体により被覆する、二次イオン質量分析であり、また、二次イオン質量分析方法において、分析試料を被覆しているイオン液体の二次イオン質量スペクトルを用いて、二次イオン質量分析装置全体としての質量スペクトルの校正及び補正を行う。また、被覆は、スピンコート法を用いて行う。更に、二次イオン質量分析装置において、分析試料を真空雰囲気中に導入する前に、分析試料表面をイオン液体により被覆する、二次イオン質量分析装置を製作する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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