機能性セラミックスの製造方法、及び該方法で製造された機能性セラミックス

開放特許情報番号
L2008000916
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2009/7/3

基本情報

出願番号 特願2007-294426
出願日 2007/11/13
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-120887
公開日 2009/6/4
発明の名称 機能性セラミックスの製造方法、及び該方法で製造された機能性セラミックス
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 機能性セラミックスの製造に適用する。
目的 特定の方法により第3元素をドープしてなる機能性セラミックスの製造方法を提供する。
効果 第3元素を平衡状態では不可能なほど大量にドープすることにより性能を向上させたセラミックス系電気・電子材料の膜またはバルク体を十分に速い速度で製造することが可能になる。
技術概要
 
溶射法を用い強制固溶によりセラミックスに第3元素をドープしてなる機能性セラミックスの製造方法にする。好ましくは、第3元素は、イットリウム、ランタン、ビスマス、及びガドリニウムから選ばれるいずれか、または、これらの2種以上の元素が、ドープ量として置換元の元素量の5〜25%の割合で用いられ、また、溶射法としては、プラズマ溶射法、ガス燃焼フレーム溶射法、高速フレーム溶射法、爆発溶射法、及び線爆溶射法のいずれかが用いられる。これにより、溶射法を採用しているため、膜生成速度が非常に速く、厚膜やバルク体を容易に形成でき、また、大面積の部材や複雑形状の部材にも適用可能であり、しかも、得られる皮膜は第3元素の大量ドープにより導電率の向上や熱伝導率の低減が容易に達成できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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