コアシェル型酸化セリウム微粒子又はそれを含有する分散液及びそれらの製造方法

開放特許情報番号
L2008000859
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2015/9/17

基本情報

出願番号 特願2007-262578
出願日 2007/10/5
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-115370
公開日 2008/5/22
登録番号 特許第5077941号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 コアシェル型酸化セリウム微粒子又はそれを含有する分散液及びそれらの製造方法
技術分野 機械・加工、有機材料、無機材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 触媒、フォトニック結晶、ガスセンサ、化学的機械的研磨剤、紫外線遮蔽剤
目的 コアシェル型酸化セリウム微粒子であって、その粒径は50〜200nm程度、粒径分布(粒径の標準偏差)が小さく、球状であり、コア部分の二次粒子も球状で大きさが揃っており、液中での分散性が良好であるコアシェル型酸化セリウム微粒子及び酸化セリウム微粒子分散液の提供、及び、還流法をコンセプトに適用させた、コアシェル型酸化セリウム微粒子及び酸化セリウム微粒子分散液の製造方法の提供。
効果 粒径が50nmから200nm程度、粒径分布(粒径の標準偏差)が小さく、球状、液中での分散性が良好であるコアシェル型酸化セリウム微粒子及びその分散液を得られる。容易に再分散するコアシェル型酸化セリウム微粒子の乾燥粉体を得られる。コアシェル型酸化セリウム微粒子分散液は、熱処理を加えても、良好な分散性が保持される。任意の分散媒に分散したコアシェル型酸化セリウム微粒子分散液を得られる。
技術概要
この技術は、コアシェル型酸化セリウム微粒子であって、そのコア部分は酸化セリウムの一次粒子が球状に集合した二次粒子であり、その二次粒子の形状は揃っており、その二次粒子表面にシェル部分となる高分子の層が存在し、微粒子の粒径の平均が30nmから200nmであり、微粒子の粒径の変動係数が0.25より小である、コアシェル型酸化セリウム微粒子とする。高分子の層が、ポリビニルピロリドン(PVP)、ヒドロキシプロピルセルロース(HPC)又はこれらの関連高分子で構成され、その層が洗浄してもコア部分の二次粒子から分離することがなく、かつ、その層が15wt%から25wt%の割合で存在しているとよい。ここで、コアシェル型酸化セリウム微粒子とは、酸化セリウムの一次粒子が球状に集合した二次粒子表面に高分子層が存在する微粒子を意味するものとして定義されるものであり、一次粒子又は一次粒子が不規則に凝集した二次粒子の表面に高分子が存在するものとは異なる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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