焼成なし炭素ナノシート複合体の製造方法、並びに該方法により得られた複合体を用いた有機性汚染物質の除去方法及び除去剤

開放特許情報番号
L2008000784
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2015/9/17

基本情報

出願番号 特願2007-226640
出願日 2007/8/31
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-057252
公開日 2009/3/19
登録番号 特許第4858988号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 焼成なし炭素ナノシート複合体の製造方法、並びに該方法により得られた複合体を用いた有機性汚染物質の除去方法及び除去剤
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造、洗浄・除去、環境・リサイクル対策
適用製品 焼成なし炭素ナノシート複合体、並びに得られた複合体を用いた有機性汚染物質の除去剤
目的 炭素ナノシート複合体を用いた有機性環境汚染物質を取り除くための処理剤について、高効率で、かつ、調製手段が簡便で、経済的に作製することが可能な処理剤を提供する。
効果 高温焼成を必要とせず、しかも、製造された炭素ナノシート複合体は、その層間に有機性汚染物質を取り込むことにより、低濃度で存在する有機性汚染物質を吸着、濃縮し、省エネルギーの条件下で完全に無害化することができ、特に数〜数十ppb程度の極低濃度有機性汚染物質の除去処理への対応が可能である。
技術概要
無機チタン塩とクエン酸とを混合・撹拌して得られた溶液と、グラファイト酸化物とを混合したのち、これを水熱処理することを特徴とする酸化チタン導入炭素ナノシート複合体の製造方法である。この方法では、グラファイト酸化物が、層状グラファイト酸化物であり、また、水熱処理の前に、混合物を還流し、また、グラファイト酸化物が、層状グラファイト酸化物を塩基性水溶液中で撹拌することにより得られたグラファイト酸化物であり、さらに、水熱処理を、100〜200℃で行う、酸化チタン導入炭素ナノシート複合体の製造方法である。また、この方法により得られた炭素ナノシート複合体からなり、その層間に有機性汚染物質を取り込むことができる有機性汚染物質除去用処理剤である。さらに、この方法により得られた炭素ナノシート複合体を用いて、有機性汚染物質をその層間に取り込む、有機性汚染物質の除去方法である。得られた炭素ナノシート複合体、及び得られた酸化チタンを投入し、暗状態及び光照射状態下でのMO濃度の経時変化を測定した。その結果を図1に示す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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