プラズマ成分変化計測方法及び装置

開放特許情報番号
L2008000774
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2009/4/17

基本情報

出願番号 特願2007-223329
出願日 2007/8/30
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-059483
公開日 2009/3/19
発明の名称 プラズマ成分変化計測方法及び装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 プラズマ成分変化計測装置
目的 ガスを原料とするプラズマプロセスにおいて、運転状況を常時自動監視して高安定な運転を行うとともに、従来よりも高度なプラズマ運転条件制御を行い製造物及び被処理物の製造・処理速度の均一化、均質化、高性能化、高度処理化を行うためのプラズマ成分変化計測方法及び装置を提供する。
効果 このプラズマ成分変化計測方法及び装置によれば、ガスを原料とするプラズマプロセスにおいて、運転状況を常時自動監視して高安定な運転を行うとともに、従来よりも高度なプラズマ運転条件制御を行い製造物及び被処理物の製造・処理速度の均一化、均質化、高性能化、高度処理化を行うことができる。
技術概要
図1は装置の構成を説明する図である。プラズマ装置は、プラズマ装置3と、高周波電源10から高周波電圧を供給するプラズマ装置3内に突設されプラズマ電極5と、複数種のガスを導入する複数の気体流量制御装置(マスフローコントローラー:MFC)7を有する複数の導入管と、1センチ以下のサイズの小さい水晶振動子センサー1と、隔膜圧力計2と、製造物であるワーク支持台15と、圧力制御弁9を備えている。プラズマ装置からの計測データをそれぞれ受ける圧力補正手段4及び温度補正手段6と、気体成分判定手段13と、制御手段11が設けられる。圧力補正手段4、温度補正手段6、気体成分判定手段13及び制御手段11は、具体的には、入力部、出力部、CPU、記憶装置等を備えたコンピュータ17が利用される。コンピュータ17の入力部には、水晶振動子センサー1と隔膜圧力計2がデータ線を介して接続される。圧力補正手段4は、水晶振動子センサー1と隔膜圧力計2からそれぞれ計測データを入力し、水晶振動子センサー1の出力から絶対圧力の影響を補正する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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