高空間分解能分光計測方法及び装置

開放特許情報番号
L2008000745
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2015/9/17

基本情報

出願番号 特願2007-212541
出願日 2007/8/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-070360
公開日 2008/3/27
登録番号 特許第5051527号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 光学測定方法
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 光学測定装置、計測機器、半導体産業、、シリコン基板、デバイス、ひずみ分布測定装置
目的 基板上に光学的に異なる2種の物質が境界面を介して接している構造を持つ被測定試料について、回折限界を超える空間分解能でラマン散乱などの光学的分光測定を可能にすることの実現。
効果 光の波長よりも短い幅のSiストライプ構造に於いても、a−a偏光配置とc−c偏光配置のスペクトルを解析することにより、励起光波長より短い、高い空間分解能でラマン信号の試料位置による依存性を導き出すことができる。
技術概要
この技術では、基板上に光学的に異なる2種の物質が境界面を介して接している構造を持つ被測定試料に対して励起光を照射し、試料から放射される信号光を計測する光学測定方法において、励起光の偏光方向は、該境界面に垂直又は平行であり、試料から放射され計測される信号光の偏光方向は、境界面に垂直又は平行であるものとする。また、基板上に光学的に異なる2種の物質が境界面を介して接している構造を持つ被測定試料に対して励起光を照射し、試料から放射される信号光を計測する光学測定方法において、励起光の偏光方向が境界面に垂直であり、試料から放射され計測される信号光の偏光方向が境界面に垂直である測定方法により得た信号と、励起光の偏光方向が境界面に平行であり、試料から放射され計測される信号光の偏光方向が該境界面に平行である測定方法により得た信号との差を取るものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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