薄膜の物性評価方法および評価装置

開放特許情報番号
L2008000740
開放特許情報登録日
2008/2/22
最新更新日
2015/9/17

基本情報

出願番号 特願2007-206667
出願日 2007/8/8
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2009-042038
公開日 2009/2/26
登録番号 特許第5120927号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 薄膜の物性評価方法および評価装置
技術分野 電気・電子、無機材料
機能 検査・検出
適用製品 簡便な操作で実施でき、半導体薄膜材料等の機能発現に関連したナノ空孔率及びナノ構造変化等の物性評価として広い分野で利用される。
目的 圧力及び温度を変えて得られた測定結果を解析して、ナノ空孔の量と大きさや比表面積、熱膨張率、分解脱離に伴う熱光学特性などの評価を目的とした、圧力変化可能かつ温度可変偏光解析測定方法を提供する。
効果 0℃以上600℃以下の温度範囲で測定可能な温度可変偏光解析装置を開発することにより、低誘電率絶縁膜材料中の空孔形成過程などの、非接触、かつ、その場観測を可能とした。
技術概要
光学的に透明な窓1を設けた試料評価室2内に試料を配置し、窓には、試料評価室内の気体圧力又は温度を変化させても、試料に照射する入射光11に対して垂直な光学面及び試料で反射する反射光12に対して垂直な光学面が設けられていることにより、種々な圧力と温度における、試料の屈折率、消衰係数又は膜厚を求めることが可能である、偏光解析を行う。尚、温度は、−196℃から600℃の範囲の温度であり、圧力は、1Paから1020hPaの範囲の圧力である。更に、偏光解析装置において、装置は、試料評価室を具備し、室は、窓を有しており、室内には試料台が配置され、窓には、試料評価室内の気体圧力又は温度を変化させても、試料台に載置された試料に照射する入射光に対して垂直な光学面及び試料から反射する反射光に対して垂直な光学面が設けられている。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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