出願番号 |
特願2009-522589 |
出願日 |
2008/7/1 |
出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 |
WO2009/008291 |
公開日 |
2009/1/15 |
登録番号 |
特許第4811690号 |
特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
発明の名称 |
カーボンナノチューブ成膜方法及び成膜装置 |
技術分野 |
無機材料 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
単層カーボンナノチューブ、成膜方法、成膜装置、カーボンナノチューブ膜、流動気相CVD法 |
目的 |
工業材料として有用な、単層カーボンナノチューブの膜を効率的、且つ大量・安価に低温で製造する方法及び装置の提供。 |
効果 |
この技術のカーボンナノチューブ成膜方法及び装置によれば、カーボンナノチューブの膜を効率的、且つ大量・安価に製造することができる。また、分散プロセスが不要であるため、再現性のある成膜技術を得ることができる。さらに、ドライプロセスであるため、電子デバイス等の用途に特に適している。 |
技術概要
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この技術では、カーボンナノチューブ成膜方法は、流動気相CVD法により原料源からカーボンナノチューブを合成し、合成されたカーボンナノチューブを反応管に連結するチャンバー内において直接基板に付着させて基板上に成膜させる。またカーボンナノチューブ成膜装置は流動気相CVD法により原料源からカーボンナノチューブを合成する反応管に連結して、カーボンナノチューブを基板に付着させる付着手段を設けてなるものとする。さらに、流動気相CVD法により原料源からカーボンナノチューブを合成し、合成されたカーボンナノチューブを反応管に連結するチャンバー内において直接基板に付着させて基板上に成膜されて成ることを特徴とするカーボンナノチューブ膜を提供する。 |
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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