軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド

開放特許情報番号
L2008000499
開放特許情報登録日
2008/2/15
最新更新日
2011/1/28

基本情報

出願番号 特願2001-066099
出願日 2001/3/9
出願人 学校法人早稲田大学、富士通株式会社
公開番号 特開2002-270426
公開日 2002/9/20
登録番号 特許第4645784号
特許権者 学校法人早稲田大学、富士通株式会社
発明の名称 軟磁性薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 軟磁性薄膜、並びにその薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド
目的 無電解めっき法により得られた高飽和磁束密度(Bs)が1.7T以上の値を有する軟磁性薄膜、その製造方法、その軟磁性薄膜を用いた薄膜磁気記録ヘッドを提供する。
効果 この軟磁性薄膜は、良好な低保磁力、高いBsを有し、この軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッドは、高い書き込み能力を有するものである。
技術概要
Co、Ni、FeおよびBを含有し、Co含有量が40〜80at%、Fe含有量が15〜40at%、Ni含有量が5〜20at%、B含有量が0.5〜5at%であり、保磁力が8Oe以下であって、無電解めっき法により形成された軟磁性薄膜である。この軟磁性薄膜を薄膜磁気記録ヘッドの磁極材料の一部もしくは全部に用いた薄膜磁気ヘッドである。図1は、磁気ヘッドであり、図1(a)は、磁気ヘッドのエアベアリングサーフェース(ABS)と垂直な断面図及び図1(b)は、ABSから見た断面図である。図1に示す薄膜磁気ヘッドは、下部磁性層6とギャップ層8が積層され、その上にパターニングされた上部磁極端9を配置し、パターニングした絶縁層11と導体層からなる書き込みコイル10を配置し、それらの上に上部磁性層12が積層されて成る記録用ヘッドと、下シールド層3の上に2つのギャップ層4に挟まれた磁気抵抗効果素子5を配置し、それらの上に上シールド層6’が積層されて成る再生用ヘッドとからなる。図2は、磁気ヘッドの他の例である。図2(a)は、磁気ヘッドのエアベアリングサーフェース(ABS)と垂直な断面図及び図2(b)は、ABSから見た断面図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 本件は、『早稲田大学技術シーズ集(問合NO.66)』に掲載されている案件です。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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