表面改質された超高分子量ポリエチレン製成形品、およびその製造方法

開放特許情報番号
L2007007802
開放特許情報登録日
2007/12/21
最新更新日
2011/11/4

基本情報

出願番号 特願2005-114097
出願日 2005/4/12
出願人 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター
公開番号 特開2006-291048
公開日 2006/10/26
登録番号 特許第4832785号
特許権者 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター
発明の名称 表面改質された超高分子量ポリエチレン製成形品、およびその製造方法
技術分野 有機材料、機械・加工
機能 機械・部品の製造、表面処理、材料・素材の製造
適用製品 超高分子量ポリエチレン製で、摺動部に使用する部品
目的  超高分子量ポリエチレン製成形品の表面から約4μmの深さまで表面改質し、低摩擦化および耐磨耗性を向上させた成形品を提供する。
効果  本技術により表面が改質された超高分子量ポリエチレン製成形品は、表面の低摩擦化(低摩擦係数)が達成され、かつ成形品表面の耐磨耗性を大幅に向上する。これは、高エネルギーイオン注入により、超高分子量ポリエチレンの表面から約4μmの深さまでアモルファスカーボン化し、摩擦磨耗特性が向上するためである。この技術はコーティング法のよ0うに、改質された層が剥離する恐れがないし、寸法変化などを勘案することなしに製品の設計が可能であり、後加工も不要である。
技術概要
 
シリコン等のイオンをイオン加速器によって加速し、超高分子量ポリエチレンに照射すると、表面から数ミクロンの範囲が改質する。加速エネルギーが3MeV〜5MeVの範囲で選択する。加速エネルギーが3MeV未満であるとイオンの成形品表面からの侵入(到達)深さが浅く、成形品の耐磨耗性が改良されず、加速エネルギーが5MeVを超えると、照射中に成形品表面が溶融する恐れがあり、いずれも好ましくない。イオンの加速エネルギーを上記の範囲で選び、イオン照射量を適当に選ぶことによって、UHMWRE製成形品の表面を約4μmの深さまでアモルファスカーボン化させることができる。  
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT