荷電粒子線照射装置
- 開放特許情報番号
- L2007007710
- 開放特許情報登録日
- 2007/12/14
- 最新更新日
- 2016/10/18
基本情報
出願番号 | 特願2005-175606 |
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出願日 | 2005/6/15 |
出願人 | 独立行政法人放射線医学総合研究所 |
公開番号 | |
公開日 | 2006/12/28 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
発明の名称 | 荷電粒子線照射装置 |
技術分野 | 電気・電子 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 荷電粒子線照射装置 |
目的 | 水平(X)方向と垂直(Y)方向の荷電粒子の分布がガウス分布となるビームを照射部に向けて輸送できる荷電粒子線照射装置を提供する。 |
効果 | 水平(X)方向と垂直(Y)方向の荷電粒子の分布がガウス分布であるビームを照射部に向けて輸送できる荷電粒子線照射装置を提供することができる。 |
技術概要![]() |
加速器で加速された荷電粒子ビームの輸送系4と、輸送系4の末端に設けられる照射部5とを備えた荷電粒子線照射装置1は、輸送系4に荷電粒子ビームの散乱体11と、散乱体11の下流に設けられて荷電粒子ビームの水平(X)方向および垂直(Y)方向のエミッタンス楕円の形状を調整可能な下流側電磁石12とを備える。散乱体の上流側に、散乱体における荷電粒子ビームの水平(X)方向および垂直(Y)方向のエミッタンス楕円の位置成分方向の幅を、同一に調整可能な上流側電磁石を備える。照射部は、回転ガントリで構成されている。図1に示す荷電粒子線照射装置1は、図示しないイオン発生源から入射されてくる荷電粒子を加速器2で加速し、出射デフレクタ3により加速器2から輸送系4へ出射し、回転ガントリ8を含む輸送系4により末端の照射部5まで輸送し、患部に向けて照射する。なお、加速器2には、サイクロトロン等の公知の装置を用いることができる。また、荷電粒子線照射装置1は、図示しない制御装置を含んで構成されている。四極電磁石7は図2に示すように磁石が配置され、ビームはその中央を図面に垂直方向に通過する。 |
イメージ図 | |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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