ジルコニウム残基を有する陰イオン吸着材の合成方法及びそれによって得られた吸着材

開放特許情報番号
L2007007251
開放特許情報登録日
2007/11/22
最新更新日
2011/8/12

基本情報

出願番号 特願2006-005784
出願日 2006/1/13
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2007-185604
公開日 2007/7/26
発明の名称 ジルコニウム残基を有する陰イオン吸着材の合成方法及びそれによって得られた吸着材
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 陰イオン処理剤、ジルコニウム型の吸着材、ジルコニウム残基
目的 ジルコニウム残基を有する吸着材を作製するための作製方法であって、ジルコニウム残基の導入が容易に行える方法の提供。
効果 ヒ素等の陰イオンを除去するためのジルコニウム担持型吸着材を作製する際、ジルコニウムの担持時の操作が熱を加えるだけで可能であるので、その作製が簡便であるため、その吸着材を大量に、且つ安定的に供給することができる。
技術概要
 
この技術では、高分子基材にグラフト重合等で導入したリン酸基、イミノ二酢酸基、ホスホン酸基、スルホン酸基又はこれらの混合基にジルコニウムを担持させ、容易に陰イオン除去吸着材を作製できるジルコニウム型の吸着材の合成法であって、熱処理のみの工程で行うものとする。高分子基材にグラフト重合等により導入されたリン酸基等にジルコニウムを担持させるためには、その処理温度、ジルコニウム含有溶液のジルコニウム濃度等の処理条件を組み合わせて行うが、具体的には、ジルコニウム含有溶液を50〜90℃に加温し、ジルコニウム含有溶液のジルコニウム濃度を3〜15mmolに調整し、その溶液中にリン酸基等を導入した高分子基材を浸漬して行う。その処理時間は3〜8時間で十分なジルコニウムの担持が行える。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT