3次元金属微細構造体の製造方法

開放特許情報番号
L2007007021
開放特許情報登録日
2007/11/9
最新更新日
2015/6/23

基本情報

出願番号 特願2006-077393
出願日 2006/3/20
出願人 独立行政法人理化学研究所
公開番号 特開2007-253354
公開日 2007/10/4
登録番号 特許第4901253号
特許権者 国立研究開発法人理化学研究所
発明の名称 3次元金属微細構造体の製造方法
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 2光子吸収微細造形法、3次元金属微細構造体の製造方法
目的 真空中での処理を行うことを必要としない3次元金属微細構造体の製造方法の提供。
効果 真空中での処理を行うことなしに3次元金属微細構造を作製することができる。
技術概要
この技術では、任意の立体形状を備えた3次元金属微細構造体の製造方法において、光を照射することにより電子を放出する電子供与体を光硬化性樹脂に添加した改質樹脂に対して、短パルスレーザー光を照射して2光子吸収微細造形法により3次元微細構造を備えたポリマー構造体を形成する第1の工程を有すると共に、第1の工程により形成したポリマー構造体に無電解めっきを施して、ポリマー構造体の表面に金属膜を形成する第2の工程を有するようにする。電子供与体は、分子構造内に少なくとも1個のカルバゾール基を有するようにすることが好ましい。さらに、電子供与体は、1,6−ジ(N−カルバゾール)−2,4−ヘキサジンの重合体であるようにすることが好ましい。または、電子供与体は、9H−カルバゾール−9−エチルメタクリレートの重合体であるであるようにしてもよい。さらに、電子供与体は、R−CHOを分子構造内に有するようにしたものとしてもよい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 実施許諾の可否・条件に関する最新の情報は、(独)理化学研究所連携推進部 知財創出・活用課までお問合せ下さい。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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