平坦度の測定方法及び装置

開放特許情報番号
L2007006642
開放特許情報登録日
2007/11/2
最新更新日
2015/9/16

基本情報

出願番号 特願2007-131757
出願日 2007/5/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-248475
公開日 2007/9/27
登録番号 特許第4528952号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 平坦度の測定方法及び装置
技術分野 その他
機能 検査・検出、その他
適用製品 平坦度の測定装置
目的 基板の平坦度と基板上の薄膜の複素誘電率の両方を同じ測定装置で測定して、薄膜の厚さが1μm以下でも複素誘電率が測定できる方法および装置を提供する。
効果 電気的な測定に依らず光学的な測定により、基板の平坦度と基板上の薄膜の複素誘電率の両方を同じ測定装置で測定して、薄膜の厚さが1μm以下でも複素誘電率が測定できる。
技術概要
試料の平坦度測定方法であって、該試料は、平板であり、該試料は、該試料の中心を軸として回転可能に支持されており、該試料の面に斜めより光が照射され、特定の回転角度において測定された透過光の透過スペクトルを該特定の回転角度から180度回転した角度において測定された透過光の透過スペクトルにより割算することにより相対透過スペクトルを求める操作を種々の回転角度において繰り返すことにより、該試料の平坦度を求める。平行平板状の基板の透過スペクトルは、フリンジのピーク周波数では入射角度に依らず、透過率は一定で最大値をとるが、その周辺周波数では、入射角度を増加させると透過率はゼロに近づく。この基板に薄膜を載せて厚さを増加させると、フリンジのピーク周波数は低周波側にずれる。これら3つの効果のために、高入射角度で基板のみの透過スペクトルに対する基板と薄膜からなる系の透過スペクトルの比のスペクトルは、最大値と最小値が隣接した構造のスペクトルになり、薄膜の複素誘電率が求まる。図1は複素誘電率測定装置の概念図である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT