プラズマ処理装置

開放特許情報番号
L2007005606
開放特許情報登録日
2007/9/21
最新更新日
2007/9/21

基本情報

出願番号 特願平09-325791
出願日 1997/11/27
出願人 株式会社日立製作所
公開番号 特開平11-074098
公開日 1999/3/16
登録番号 特許第3175672号
特許権者 株式会社日立製作所
発明の名称 プラズマ処理装置
技術分野 電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 プラズマ処理装置
目的 プラズマ生成部を取り囲む非導電性材料でできた真空容器壁がプラズマによって削られる量を制御し、且つプラズマ着火性を向上させる。
効果 本実施例を用いることで、プラズマ生成部を取り囲む真空容器壁がプラズマによって削られる量を制御でき、且つプラズマ着火性を向上することができる。また、アンテナの配置、アンテナの巻数、アンテナー真空容器の距離等によって、プラズマとアンテナの結合の度合や位置を変化させることで、プラズマの分布を制御する事ができ、均一なプラズマを得る事ができる。
技術概要
 
高周波電源10が発生した高周波電力をアンテナ1に供給することによりプラズマを生成するが、アンテナのもう一端を電気容量が可変のコンデンサ−9を挟んでアースに接地される。ファラデーシールド8はアースから電気的に離し、可変コンデンサー9の電気容量はプラズマ着火後には、壁の削れ量が小さくなるようにアンテナの両端の電圧の絶対値が等しく正負が逆になるような値に設定する。プラズマ6を着火するときにはコンデンサー9の電気容量を壁の削れ量が最小となる値よりも大きな値もしくは小さな値となるようにする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 特許通常実施権の許諾(非独占)

登録者情報

登録者名称 株式会社日立製作所

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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