プラズマ処理装置および処理方法

開放特許情報番号
L2007004727
開放特許情報登録日
2007/9/7
最新更新日
2007/9/7

基本情報

出願番号 特願2000-289303
出願日 2000/9/22
出願人 株式会社日立製作所
公開番号 特開2002-100611
公開日 2002/4/5
登録番号 特許第3634734号
特許権者 株式会社日立製作所
発明の名称 プラズマ処理装置および処理方法
技術分野 電気・電子
機能 表面処理
適用製品 プラズマ処理装置
目的 プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。
効果 プラズマ装置から多数の信号を取り出し、これらを少数の有効な信号に変換することができ,処理状態の変化を監視することができる。
技術概要
 
試料を処理する処理チャンバ1を有するプラズマ処理装置において、チャンバ内部の処理状態を検出し複数の出力信号を出力する状態検出手段と、信号フィルタを集めたデータベース10から信号フィルタ選択手段11により任意の数の信号処理フィルタを取り出して構成され任意の数の装置状態信号を生成する信号変換部9a、9bとを備え、前記信号変換部において前記出力信号から該出力信号より少ない数の時系列を持つ前記装置状態信号を生成することを特徴とするプラズマ処理装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 特許通常実施権の許諾(非独占)

登録者情報

登録者名称 株式会社日立製作所

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT