プラズマ処理装置及びそのメンテナンス方法

開放特許情報番号
L2007004703
開放特許情報登録日
2007/9/7
最新更新日
2007/9/7

基本情報

出願番号 特願2000-293002
出願日 2000/9/26
出願人 株式会社日立製作所
公開番号 特開2002-110638
公開日 2002/4/12
登録番号 特許第3559760号
特許権者 株式会社日立製作所
発明の名称 プラズマ処理装置及びそのメンテナンス方法
技術分野 電気・電子
機能 表面処理
適用製品 プラズマ処理装置
目的 処理室内部の部品交換やメンテナンス作業が容易に行えるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
効果 クランプ締結機構により締結と分割が可能な複数個のユニットからなるカップリングユニットを用いることで外周導体同士の接続・分離がクランプ締結・分離という簡略な動作で行える。また,カップリングユニットが外周導体と押圧力をもって接触し,接触面に電磁波シールドが設置されているので電磁波の漏洩が発生しない。
技術概要
 
UHF帯アンテナ110からの電磁波放射によりプラズマを発生して試料を処理するプラズマ処理装置において,アンテナ電源系120からUHF帯アンテナ110に電力を供給する同軸管導入端子部分150について,カップリングユニットのクランプ締結と電磁波シールドにより同軸管アースシールドの接続と分離をおこない,さらにクランプ締結と連動したインターロック機構166によりアンテナ110への電力供給を可能とすることで,導入端子の接続・分離作業を容易にかつ再現性・信頼性よく行ってウエットクリーニングや部品交換などの,メンテナンス作業を効率よく行う。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 特許通常実施権の許諾(非独占)

登録者情報

登録者名称 株式会社日立製作所

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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