複合化高分子材料およびこれを含む光学材料

開放特許情報番号
L2007003742
開放特許情報登録日
2007/8/3
最新更新日
2015/9/16

基本情報

出願番号 特願2007-120189
出願日 2007/4/27
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-045109
公開日 2008/2/28
登録番号 特許第5164036号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 複合化高分子材料およびこれを含む光学材料
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 複合化高分子材料、ナノコンポジット、光学材料、電子材料、コーティング材料、ガスバリアー材料、光触媒
目的 芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステル、芳香族ポリエーテル、またはそれらの共重合体を主成分として含む高分子マトリックス中に、金属酸化物微粒子が均一分散された、高分子マトリックスよりも高い屈折率を有する複合化高分子材料の提供。
効果 複合化高分子材料が、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステル、芳香族ポリエーテル、またはそれらの共重合体を主成分として含んでいるため、射出成形等の汎用的かつ多様な成形方法を目的に応じて選択することが可能である。すなわち、成形加工性が高まるので、より広い用途に用いることが可能になる。
技術概要
 
この技術は、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステル、芳香族ポリエーテル、またはそれらの共重合体を主成分として含む高分子マトリックス中に、金属酸化物微粒子が分散されてなる複合化高分子材料であって、金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は1nm以上30nm未満であり、かつ、金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物の屈折率は2.0以上であり、高分子マトリックスの屈折率よりも、0.005以上高い屈折率を有する。複合化高分子材料は、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリエステル、芳香族ポリエーテル、またはそれらの共重合体は、酸性基を有していることが好ましい。これにより、高分子マトリックスと金属酸化物微粒子との相互作用により金属酸化物微粒子の分散性を高める。また、複合化高分子材料は、酸性基がスルホン酸基またはホスホン酸基であると、複合化高分子材料における金属酸化物微粒子の分散性をさらに向上できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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