| 出願番号 |
特願2007-110068 |
| 出願日 |
2007/4/19 |
| 出願人 |
独立行政法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2008-143162 |
| 公開日 |
2008/6/26 |
| 登録番号 |
特許第4986138号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
反射防止構造を有する光学素子用成形型の製造方法 |
| 技術分野 |
電気・電子、情報・通信 |
| 機能 |
材料・素材の製造、表面処理 |
| 適用製品 |
反射防止構造を有する発光素子、受光素子、反射防止コート等の光学素子用成形型の製造に適用する。 |
| 目的 |
基板／エッチング転写層／薄膜層からなる多層積層体の表面から順次エッチングを行なってナノオーダーの凹凸を形成する光学素子用成形型の製造方法を提供する。 |
| 効果 |
大面積で且つ複雑な自由曲面を持つ光学素子の表面に、均一に安定してナノ構造体を有しより広い波長帯域で反射防止効果をもち、且つ入射角度依存性の小さい反射防止構造を有する光学素子の得られる光学素子用成形型が、少ない行程で、且つ生産性の高いドライプロセスのみで製造することが可能になる。 |
技術概要
 |
基板２上に１層以上のエッチング転写層３を形成し、このエッチング転写層３上に島状微粒子５生成用の薄膜を形成し、この薄膜に、熱反応、光反応、化学反応のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、薄膜物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせて、島状微粒子５を複数形成し、複数の島状微粒子５を保護マスクとしてエッチング転写層３及び基板２を順次エッチングを行なって、基板２の微細な表面に凸状のパターンを形成してなる反射防止構造を有する光学素子用成形型（図）の製造方法にする。島状微粒子５は、その平均粒径が５ｎｍ〜１０００ｎｍであり、その平均間隔が１０ｎｍ〜２０００ｎｍで、ランダムに配置されるのが好ましくい。尚、基板２として、石英ガラス、シリコン、チタン等の金属または非金属が用いられ、また、薄膜の材料として、銀、金、パラジウム等の酸化物、窒化物等が用いられ、また、エッチング転写層３として、酸化物、窒化物、炭化物等が用いられ、１層もしくは多層に形成される。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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