ナノ構造体を有する光学素子用成形型、ナノ構造体用成形型、その製造方法および光学素子

開放特許情報番号
L2007003715
開放特許情報登録日
2007/8/3
最新更新日
2015/9/16

基本情報

出願番号 特願2007-109956
出願日 2007/4/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-168610
公開日 2008/7/24
登録番号 特許第4986137号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ナノ構造体を有する光学素子用又はナノ構造体用成形型の製造方法
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 蛍光分析、偏光分析に用いる検出感度の高い、ナノ構造体を有する光学素子
目的 基板表面にナノオーダーの微細な凹凸面のナノ構造を有する光学素子用成形型を、生産性の高いドライプロセスのみで、簡単な工程により作製する製造方法を提供する。
効果 大面積で且つ複雑な自由曲面を持つ基板表面に、均一に安定してナノ構造体を有する、バイオや医療に用いる高感度センサーチップを安価に製造することができる。
技術概要
基板2上に1層以上のエッチング転写層3を形成し、その上に半球状の島状微粒子生成用の薄膜を形成させる。この薄膜を、熱反応、光反応、ガス反応等のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、その物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせ、半球状の島状微粒子5を複数形成させる。この複数の島状微粒子5を保護マスクとしてエッチング転写層3及び基板2を反応ガスによって順次エッチングして、基板2の微細な表面に錐形状のパターンを形成させ、微細な凹凸面(ナノ構造型面)を有する光学素子用成形型を製造する。薄膜4は、銀、金、白金、パラジウム、タングステン、ビスマス、テルルなどを主成分とする酸化物、窒化物などを用い、熱反応、光反応、ガス(例えば、CF↓4、CHF↓3、CH↓4、CF↓6、H↓2、CO等)の分解反応等をパラメータとして、材料の凝集反応、核形成反応をさせて、島状微粒子5の平均粒径を5〜1000nmとする粒径や間隔を制御するのが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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