高ビーム品質レーザー

開放特許情報番号
L2007003625
開放特許情報登録日
2007/8/3
最新更新日
2015/9/15

基本情報

出願番号 特願2007-067606
出願日 2007/3/15
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2007-288166
公開日 2007/11/1
登録番号 特許第5071926号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 高ビーム品質レーザー
技術分野 無機材料、金属材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造、安全・福祉対策
適用製品 簡便な操作で得られ、自動車エンジン等の摩擦低減化及び半導体基板の穴あけ・トリミング等のレーザー加工並びにレーザーメス等の医療分野で広く利用される。
目的 レーザー共振器内にアパーチャや吸収体等を挿入することなしに、高品質な横モードを有するレーザーを提供する。
効果 レーザー共振器内に何も入れることなく、励起光でレーザー媒質を励起するだけで簡単に高品質な横モードを有するレーザーを製作でき、その産業的利用価値は極めて大きい。
技術概要
高品質な横モードを有するレーザー発振器であって、準3準位系で且つ非変形性のレーザー媒質を用い、レーザー遷移の上準位を直接励起し、レーザー媒質の吸光度を2.0以上にする。尚、準3準位系のレーザー媒質は、ルビー(Cr:Al↓2O↓3)、Er添加レーザー媒質及びYb添加レーザー媒質であり、Er添加レーザー媒質は、Er:glass又はEr:YAGであり、Yb添加レーザー媒質は、Yb:YAG、Yb:glass、Yb:YLF等である。更に、準3準位系で且つ非変形性のレーザー媒質を用い、レーザー遷移の上準位を直接励起し、レーザー媒質の吸光度を2.0以上にしたことを特徴とする高品質な横モードで増幅するレーザー増幅器を製作する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT