紫外線照射による室温でのナノ粒子の作製方法及びナノ粒子膜

開放特許情報番号
L2007003591
開放特許情報登録日
2007/8/3
最新更新日
2008/11/7

基本情報

出願番号 特願2007-054831
出願日 2007/3/5
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-212849
公開日 2008/9/18
発明の名称 紫外線照射による室温でのナノ粒子の作製方法及びナノ粒子膜
技術分野 無機材料
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 高誘電率絶縁材料、太陽電池材料、センサー、触媒、磁性材料、光触媒材料
目的 基板上に塗布した膜に紫外線を照射することによって、室温で、簡便、高効率で結晶性乃至非結晶性のナノ粒子を作製する方法及び高機能無機材料として有用なナノ粒子膜の提供。
効果 本技術によれば、低温、特に室温で、ナノメートルサイズのナノ粒子を作製することができる。又、廉価で簡便、安全管理上の規制のない取り扱い容易な小型の装置のみで、ナノメートルサイズのナノ粒子を作製することができる。さらに、ナノ結晶膜としても利用可能であり、各種デバイスや機能集積材料への応用展開にも寄与できる。
技術概要
この技術では、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド(Zr(O−n−C↓4H↓9)↓4 or Zr(O−n−Bu)↓4)をエチレングリコールモノメチルエーテル(EGMME)に対して0.1mol/l濃度になるように溶解し、その後、130℃のオイルバス中で3時間還流した。その後、室温まで冷却し、溶液に対して0.1mol/l濃度になるようEGMMEで10倍に希釈したH↓2Oを加え、そのまま一晩撹拌した。これを薄膜作製用の前駆体溶液としてSiO↓2ガラス基板にスピンコーティングした後、得られた薄膜の表面を原子間力顕微鏡により観察した。成膜しただけの膜はゲル状の膜であり、粒子の形成は認められなかった。また、成膜直後は均質で平滑な膜であったが、時間経過とともに徐々に重縮合・乾燥が進むと、表面にクラックが生じることが分かった。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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