精密薄膜分析装置

開放特許情報番号
L2007003016
開放特許情報登録日
2007/6/15
最新更新日
2015/9/15

基本情報

出願番号 特願2007-038537
出願日 2007/2/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-203046
公開日 2008/9/4
登録番号 特許第5062731号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 精密薄膜分析装置
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 薄膜材料、X線反射率測定方法
目的 薄膜の厚さをXRRで測定するときに、測定中に試料の薄膜表面に大気中の吸着汚染ガス成分が堆積することによって、XRRによる膜厚測定結果に影響を与えることを抑制する手段の提供。
効果 本技術によれば、試料表面を大気から遮断し大気中のガス成分が吸着しない。従って、薄膜の見かけの厚さが変化しない。そのため薄膜の厚さの精密な測定ができるという利点がある。
技術概要
この技術では、X線源からのビームは放物線多層膜ミラーにより進行方向を変えられ、制限スリットにより絞り込まれ、モノクロメータで波長選別が行われる。さらに制限スリットによりビームが絞られ、回転可能に取り付けられた試料に照射される。試料表面で反射したビームは、さらに制限スリットにより絞られ、検出器に入射する。試料は大気中に露出されており、X線が照射され、その反射強度の角度依存性を測定することができるように構成されている。試料の表面は高純度ガスで覆われるように工夫されており、試料の表面に大気中の吸着汚染ガスが付着することを阻止するようになっている。すなわち、ガスボンベからガス純化装置にガス管により導入されたガスは、純化された後にガス流量制御器において流量が調節される。次いで、ガス供給器から高純度ガスが試料の表面に照射される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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