シリコン基板の製造装置、製造方法及びシリコン基板

開放特許情報番号
L2007002876
開放特許情報登録日
2007/6/1
最新更新日
2018/1/23

基本情報

出願番号 特願2008-555060
出願日 2008/1/22
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2008/090864
公開日 2008/7/31
登録番号 特許第5062767号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 シリコン基板の製造装置及び製造方法
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 太陽電池、シリコン基板
目的 好ましくない不純物混入や欠陥の少ない、薄膜フィルム化をも可能とする、平坦な、大面積の多結晶薄板状シリコン基板を効率的に生産する製造装置及び製造方法の実現。
効果 基材から噴出する気体と排出される気体の両者の動的圧力均衡状態を利用して、成形するシリコンを固体・液体と非接触状態で安定して保持する構成であるから、シリコン基板を清浄で、平坦で平滑な表面性状とすることができる。
技術概要
この技術では、シリコン基板の製造装置は、シリコン溶融炉から熔融シリコンを成形に適した状態に調整するインターフェースを介して溶融シリコンが供給される成形ベッドが配置され、このベッドを用いて、シリコンに対して不活性な気体雰囲気下において、熔融シリコンを板状に成形するシリコン基板の製造装置であって、ベッドは、板状に成形される溶融シリコンに対して、少なくともその一方の面に向けて気体を噴出する複数の気体噴出孔と、噴出した気体を成形ベッドから排出する複数の気体排出孔およびまたは排出溝を有する。そして、ベッドから噴出する気体と排出される気体の両者の形成する動的圧力均衡状態にシリコンを保持しつつ、シリコンの面と平行方向に引っ張り応力をかけながら、シリコンを板状に成形する。このシリコン基板の製造装置において、インターフェースが重力、遠心力、界面張力およびせん断力の複数の作用の組み合わせを利用して熔融シリコンに一定の広がりを持たせる仕組みを有する装置からなるものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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