細胞培養基板

開放特許情報番号
L2007002855
開放特許情報登録日
2007/6/1
最新更新日
2015/9/15

基本情報

出願番号 特願2007-004046
出願日 2007/1/12
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-167695
公開日 2008/7/24
登録番号 特許第4682364号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 細胞培養基板
技術分野 食品・バイオ
機能 材料・素材の製造
適用製品 細胞培養基板
目的 細胞培養前、または細胞培養下の両条件において、光照射によって、照射部位特異的に、照射直後に速やかに細胞接着分子を介した特異的な細胞接着性を持つ基板を作成する。
効果 この細胞接着基板は、細胞接着ペプチド部分に光解離性保護基を導入しているため、光照射前では、基板上で細胞を培養しても細胞はほとんど基板に接着することができないが、基板上の特定の位置、特定のパターンないし特定のタイミングで光を照射することにより、照射した位置にのみ細胞接着ペプチドを露出させることができ、ここに細胞を接着させることができる。したがって、細胞の接着パターンないし接着のタイミングを非常に精密に制御することができる。
技術概要
光解離性保護基を細胞接着ペプチド部分に導入したケージドペプチドを基板上に結合してなる、細胞培養基板である。また、細胞接着ペプチドがRGDであり、光解離性保護基がRGDのGのアミノ基に導入されたN−2−ニトロベンジル基である細胞培養基板である。また、この細胞培養基板に、特定のタイミングおよび/または特定のパターンで光照射して光解離性保護基を除去し、細胞接着ペプチド部分を基板上において、特定のタイミングおよび/または特定のパターンで形成し、基板上で細胞を培養する細胞培養基板上に特定のパターンでおよび/または特定のタイミングで細胞を接着させた状態で細胞を培養する方法である。図1は基板作成と細胞接着の光制御実験のスキームである。ポリLリジン(PLL)をコートしてある培養基板へ(i)、マレイミドとスクシミジルエステルを持つ二架橋性のポリエチレングリコールを反応させ(ii)、次にペプチドを反応させて、ペプチドをコートした(iii)。細胞を付着させたい部位に光照射すれば、細胞が接着する(iv)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【改善】
改善効果1 光照射と各種の細胞の接着を繰り返すことで、細胞播種後に細胞を増殖させる領域を任意の2次元パターンで決めることができるため、細胞相互間の関係を調べることもできる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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