表面微構造を制御した金属酸化物薄膜の製造方法及びその金属酸化物薄膜

開放特許情報番号
L2007002795
開放特許情報登録日
2007/6/1
最新更新日
2015/9/15

基本情報

出願番号 特願2006-327646
出願日 2006/12/4
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2008-137869
公開日 2008/6/19
登録番号 特許第4963223号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 表面微構造を制御した金属酸化物薄膜の製造方法及びその金属酸化物薄膜
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 表面微構造を制御した金属酸化物薄膜
目的 フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液と紫外線照射及び電場印加を用いた、金属酸化物薄膜の製造方法と、その表面微構造を紫外線照射と電場印加により制御する方法を提供する。
効果 薄膜作製プロセス中に、紫外線照射及び電場印加を用いて、金属酸化物の表面微構造を制御した、薄膜を得る事が出来る。
技術概要
2枚の導電性基板を電極として電場を印加しながら、フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液に基板を浸漬して、ディップコーティング、乾燥、仮焼、そして急速加熱処理して、基板上の表面微構造を制御した金属酸化物薄膜を製造する。金属酸化物の前駆体は、フォトクロミックな金属−酸素−金属のネットワークからなる金属−酸素系無機ゲル前駆体溶液とし、金属酸化物は、ZrO↓2、Al↓2O↓3、MgO↓2、SiO↓2、TiO↓2、SnO↓2、HfO↓2、CeO↓2、Y↓2O↓3などとする。2枚の導電性基板を電極として電場を印加しながら、フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液に基板を浸漬する、併せて紫外線を照射しながら浸漬をし、乾燥、仮焼、急速加熱処理して製膜した薄膜の表面を制御するのが好ましい。表面の微構造は、例えば、表面粒子径が13〜445nmで、表面粗度が0.69〜8.66nmのナノサイズで均質に制御されている表面などとする事が出来る。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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