| 出願番号 |
特願2006-014431 |
| 出願日 |
2006/1/23 |
| 出願人 |
国立大学法人京都大学 |
| 公開番号 |
特開2007-092014 |
| 公開日 |
2007/4/12 |
| 登録番号 |
特許第4543178号 |
| 特許権者 |
国立大学法人京都大学 |
| 発明の名称 |
新規リビングラジカル重合法 |
| 技術分野 |
化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
新規リビングラジカル重合システム |
| 目的 |
リビングラジカル重合のための高い活性を有する触媒およびこの触媒を用いた重合法を提供する。 |
| 効果 |
この触媒は、低毒性であるという利点を有する。この触媒は、反応液に高溶解性であるという利点を有し、そのため、配位子を添加して錯体とする必要もない。この触媒は、高い活性を有するため、重合反応に１００℃以上の高温を必要とすることもなく、そして触媒の使用量を低減することができる。また、ポリマー成長鎖を反応中に保護するために高価な特殊な保護基を必要とすることもない。 |
技術概要
 |
リビングラジカル重合法のための触媒であって、ゲルマニウム、スズ、またはアンチモンから選択される少なくとも１つの中心元素と、中心元素に結合した少なくとも１つのハロゲン原子とを含む化合物からなる、触媒である。また、触媒であって、Ｒ↑１↓ｎＭＸ↑１↓ｍの化合物からなる、触媒である。ここで、Ｒ↑１はアリールまたは置換アリールであり、ｎは０〜３の整数であり、Ｍはゲルマニウム、スズ、またはアンチモンであり、Ｘ↑１はハロゲンであり、ｍは１〜４の整数である。また、Ｒ↑１はフェニル、低級アルキルフェニルまたは低級アルキルオキシフェニルであり、Ｘ↑１はヨウ素であり、ｍは２〜４の整数である、触媒である。また、Ｍはゲルマニウムであり、Ｒ↑１はフェニル、低級アルキルフェニルまたは低級アルキルオキシフェニルであり、Ｘ↑１はヨウ素であり、ｍは２〜４の整数である、触媒である。図１はこの概念を示す模式図である。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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