マイクロパターンの形成方法、マイクロパターン、マイクロパターン転写形成用モールドの作製方法、及びマイクロパターン転写形成用モールド

開放特許情報番号
L2007002018
開放特許情報登録日
2007/3/30
最新更新日
2007/3/30

基本情報

出願番号 特願2003-293411
出願日 2003/8/14
出願人 国立大学法人名古屋大学
公開番号 特開2005-064289
公開日 2005/3/10
登録番号 特許第3749950号
特許権者 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 マイクロパターンの形成方法、マイクロパターン、マイクロパターン転写形成用モールドの作製方法、及びマイクロパターン転写形成用モールド
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 高分子基板、金属、フォトリソグラフィ技術、薄膜
目的 フォトリソグラフィ技術を用いたマイクロパターンの作製方法においては、工程が複雑でコストがかかるばかりでなく、10μm以下のラインスペースで高密度のマイクロパターンを形成することは困難であることに鑑みた、簡易な工程で高密度のマイクロパターンを形成することのできる新規な方法の提供。
効果 有機単分子膜の形成、有機単分子膜のパターニング、薄膜の選択成長、及び転写という比較的単純な4つの工程のみで、目的とするマイクロパターンを形成できる。また、有機単分子膜パターンを高密度化することにより、有機単分子膜パターン上に選択成長される薄膜も微細化するとともに高密度に配置されるようになるため、転写形成されるマイクロパターンも高密度化することができる。
技術概要
この技術は、第1の基板上に有機単分子膜を形成する工程と、有機単分子膜をフォトリソグラフィ技術によって微細加工し、有機単分子膜パターンを形成する工程と、有機単分子膜パターン上に、薄膜を選択成長させる工程と、薄膜を高分子からなる第2の基板上に転写し、第2の基板上に薄膜よりなるマイクロパターンを形成する工程と、を具えるマイクロパターンの形成方法とする。所定の基板上に形成された有機単分子膜から高密度の有機単分子膜パターンを形成し、この有機単分子膜パターン上に目的とするマイクロパターンを構成する薄膜を選択成長させてモールドを形成し、高分子基板に対してモールドを例えば押圧し、薄膜を他の基板上に転写するようにしている。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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