ヘテロアセン化合物及びその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2007001967
- 開放特許情報登録日
- 2007/3/30
- 最新更新日
- 2020/10/21
基本情報
| 出願番号 | 特願2005-067755 |
|---|---|
| 出願日 | 2005/3/10 |
| 出願人 | 国立大学法人名古屋大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2006/9/21 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人東海国立大学機構 |
| 発明の名称 | ヘテロアセン化合物及びその製造方法 |
| 技術分野 | 化学・薬品 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 有機薄膜トランジスタ、有機電界発光素子 |
| 目的 | 有機溶媒への溶解度が従来のものに比べて高いヘテロアセン化合物の提供。 |
| 効果 | 有機溶媒への溶解度が従来のものに比べて高いヘテロアセン化合物を提供することができる。また、そのようなヘテロアセン化合物を効率よく製造する方法を提供することができる。 |
技術概要) |
本技術の第１のヘテロアセン化合物は、式（１ａ）又は（１ｂ）で表されるものである。式（１ａ）及び式（１ｂ）において、Ｅは硫黄、セレン又はテルルであり、Ｒ↑１はトリアルキルシリル基、炭素数１〜１８のアルキル基，炭素数１〜１８のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基などから選ばれた一種であり、Ａｒ↑１，Ａｒ↑２及びＡｒ↑３はそれぞれ独立してベンゼン、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、セレノフェン、テルロフェン又は複数のチオフェンかセレノフェンかテルロフェンの縮環した含カルコゲン縮環体である。 |
| イメージ図 | |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
)
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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