光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた水素の製造方法

開放特許情報番号
L2007001688
開放特許情報登録日
2007/3/23
最新更新日
2009/6/26

基本情報

出願番号 特願2003-129083
出願日 2003/5/7
出願人 国立大学法人 鹿児島大学
公開番号 特開2004-330074
公開日 2004/11/25
登録番号 特許第4296259号
特許権者 国立大学法人 鹿児島大学
発明の名称 水素の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 酸化チタン、グラファイトシリカ、紫外線および可視光応答型光触媒
目的 太陽光などに含まれる紫外線および可視光線を効率よく吸収する光触媒を使用することによって、水素含有化合物(アルコール類)を含む水や有害化学物質に光を照射し、水素含有化合物(アルコール類)を含む水あるいは有害物質を分解することによる高効率の水素の製造方法あるいは有害物質の無害化処理方法の提供。
効果 本技術の光触媒は、太陽光に対しても優れた触媒活性能を有する。従って、太陽光エネルギーを直接利用してたとえば水と水素含有化合物(アルコール類)から高効率に水素を発生できる。将来的には無尽蔵の太陽光で効率よく水素を大量に製造できるなどといった利点を有するものであり、近年のエネルギー問題の克服に大きく貢献するものである。
技術概要
 
この技術では、代表的光触媒である酸化チタンの光触媒活性を向上させるために、添加剤としてグラファイトシリカを加える。即ち、アナターゼ80%、ルチル20%の酸化チタン粉末(粒径約0.021μm)とグラファイトシリカを粉砕した粉末(平均粒径5〜6μm)を溶液中で混合し光触媒を得る。この光触媒を含む反応溶液(アルコール水溶液)に紫外線(300nm〜410nm)を照射して生成する水素ガスを定量的に調べることによって、酸化チタンの光触媒活性を評価する。そこで、水素発生量のグラファイトシリカ含量(単位はwt%(重量百分率)である)依存性をメタノールの濃度が40vol%(体積百分率))の場合について調べた結果、酸化チタンとグラファイトシリカの両方を加えた系では、3時間照射後で約9100ppmの水素が発生した。酸化チタン単独の系よりも200倍以上の発生であった。グラファイトシリカの添加効果は非常に大きいと言える。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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