炭素多孔体、炭素多孔体を製造する方法、吸着剤および生体分子素子

開放特許情報番号
L2007001539
開放特許情報登録日
2007/3/23
最新更新日
2015/10/12

基本情報

出願番号 特願2005-022234
出願日 2005/1/28
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2006-206397
公開日 2006/8/10
登録番号 特許第4724877号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 炭素多孔体、炭素多孔体を製造する方法、吸着剤および生体分子素子
技術分野 食品・バイオ、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 炭素多孔体、吸着剤、生体分子素子
目的 より大きな孔容量と比表面積とを有し、吸着物質の内部への拡散に好適な炭素多孔体、及び、その製造方法及び炭素多孔体を用いたアプリケーション(吸着剤および生体分子素子)を提供する。
効果 ケージ型シリカ多孔体は、従来用いられているレプリカの比表面積および孔容量よりも小さな比表面積および孔容量を有するため、得られる炭素多孔体は、従来よりも大きな孔容量および比表面積を有することができる。
技術概要
 
炭素多孔体を製造する方法は、ケージ型シリカ多孔体と炭素源とを混合する工程と、得られた混合物を加熱する工程と、反応物からケージ形シリカ多孔体を除去する工程とを包含する。ケージ型シリカ多孔体は、シリカ骨格と、シリカ骨格によって形成された複数の孔と、複数の孔のそれぞれを相互に結合する、シリカ骨格によって形成されたチャネルとを含む。複数の孔は、三次元に規則的かつ対称に位置し、複数の孔の直径d↓1と、チャネルの径d↓2とは、関係d↓1>d↓2を満たす。ケージ形シリカ多孔体と炭素源とは、ケージ形シリカ多孔体中のケイ素(Si)と炭素源中の炭素(C)とのモル比(C/Si)が、関係0.8<C/Si<3.0を満たすように混合される。ケージ形シリカ多孔体は、KIT−5であり得る。KIT−5の比表面積sは、450<s(m↑2/g)<690、距離d↓2は、4<d↓2(nm)<6、距離d↓1は、10<d↓1(nm)<14である。炭素源は、糖類、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エーテル類、炭化水素類である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【改善】
改善効果1 このようなケージ型シリカ多孔体と炭素源とは、所定のモル比(すなわち、0.8<C/Si<3.0)を満たすように混合されるので、炭素同士の癒着のない規則性の高い炭素多孔体が得られる。このようにして得られた炭素多孔体は、従来よりも吸着力を向上させることができるとともに、従来吸着できなかった大きな物質をも吸着することができる。また、炭素多孔体内への吸着物質の拡散も容易となり得る。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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