X線回折分析方法およびX線回折分析装置

開放特許情報番号
L2007001518
開放特許情報登録日
2007/3/23
最新更新日
2015/10/12

基本情報

出願番号 特願2005-066097
出願日 2005/3/9
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2006-250642
公開日 2006/9/21
登録番号 特許第4581126号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 X線回折分析方法およびX線回折分析装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 X線回折分析装置
目的 不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるX線回折図形、特に二次元の回折X線強度分布画像を短時間で容易に取得することを可能とするX線回折分析方法を提供する。また、そのようなX線回折分析方法を実施するための簡単な構成のX線回折分析装置を提供する。
効果 試料の被測定領域内の各部位から出射する回折X線を部位ごとに別々の検出素子で同時に測定するので、小さいビームサイズのX線を用いた技術では欠くことのできない被測定領域内の各部位の一点ずつの走査をしなくても、その走査を行ったのと同じ情報を取得することができる。したがって、そのような技術を用いる場合と比較して劇的に短い時間で一試料の測定を実施することができる。
技術概要
図1は、X線回折分析装置の概念図である。X線回折分析装置はX線発生部1、試料部2、検出部3を有している。X線発生部1は、単色のX線を発生させることが可能であり、且つその波長を連続的に変えることができる。試料部2は、試料4と試料4を測定中固定保持する試料支持部5とを備えている。検出部3は、二次元に配列された複数の検出素子からなる二次元位置敏感型検出器7と、試料4で発生して試料表面の被測定領域A内の各部位から出射する回折X線10の角度発散を制限することによって被測定領域A内の異なる部位から出射する回折X線10を二次元位置敏感型検出器7の別々の検出素子で区別して検出できるようにするコリメータ(例えば合成石英製キャピラリを集合させたキャピラリプレート、リソグラフィ技術により軽金属に同様の加工を施したもの)等の角度発散制限手段8と、二次元位置敏感型検出器7および角度発散制限手段8を測定中固定保持する検出器支持部9とを有する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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